產品分類
InP長晶設備
所屬分類：
InP長晶設備
概要：
產品應用/Product Applications： ?適用領域：單晶生長 Relevant Industries:Single Crystal Growth ?適用材料：Ga2O3、GaAs等 Suitable for Processing: Ga2O3 (Gallium Oxide),GaAS(Gallium Arsenide), etc. ?晶圓尺寸：12/8/6英寸 Wafer Size: 12/8/6 inch 技術指標/Technical Indicators： ?制程溫度范圍：2200°C Process Temperature Range：2200°C ?加熱方式：感應/電阻 Heating Method:Induction/Resistance
關鍵詞：
InP長晶設備
產品應用/Product Applications：
♦適用領域：單晶生長
Relevant Industries:Single Crystal Growth
♦適用材料：Ga2O3、GaAs等
Suitable for Processing: Ga2O3 (Gallium Oxide),GaAS(Gallium Arsenide), etc.
♦晶圓尺寸：12/8/6英寸
Wafer Size: 12/8/6 inch
技術指標/Technical Indicators：
♦制程溫度范圍：2200°C
Process Temperature Range：2200°C
♦加熱方式：感應/電阻
Heating Method:Induction/Resistance
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